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闪存参考单元的隧穿氧化层103中会捕获一些主要从生产工艺带来的浅能级的空穴，在浮栅里面会注入所需要的电子。编译过程中浮栅104可以捕获电子，擦除过程中隧穿氧化层103会捕获空穴；在经过多次的编译以及擦除后，会在浮栅104中有更多的电子，隧穿氧化层103中有更多的空**7中经编译和擦除循环后电子空穴的净值(差值)与未经编译和擦除循环的电子空穴的净值(差值)相等，从而保证闪存参考单元编译和擦除循环后的输出电流与编译和擦除循环前的输出电流是相等的。擦除过程中隧穿氧化层捕获的空穴为深能级的空穴，这些深能级的空穴不容易移动，而在浮栅里面捕获的电子比较活跃，在htol测试过程中高温下会比较容易丢失，从而补偿了闪存参考单元从生产工艺带来的浅能级的空穴在htol测试过程中的丢失。上海顶策科技有限公司，20年以上的丰富测试技术积累及运营经验，拥有多项发明专利及软件著作权。一体化HTOL测试机品牌排行榜

    技术实现要素：本发明提供了一种闪存htol测试方法，以解决闪存htol测试中读点失效的问题。本发明提供的闪存htol测试方法，包括：提供待测闪存，所述闪存包括闪存参考单元和闪存阵列单元；所述闪存参考单元中捕获有空穴；对所述闪存参考单元循环进行编译和擦除，以在所述闪存参考单元中引入电子；对所述闪存进行htol测试，所述引入电子在所述htol测试过程中部分丢失，以对htol测试过程中所述空穴的丢失形成补偿。进一步的，所述闪存参考单元包括衬底、位于所述衬底中的导电沟道、位于所述导电沟道两侧的源极和漏极，位于所述导电沟道上方的栅极单元，所述栅极单元从下到上依次包括隧穿氧化层、浮栅、栅间介质层以及控制栅，所述栅极单元的两侧分布有侧墙。 嘉定区一体化HTOL测试机上海顶策科技有限公司自成立以来，已经为超过500家半导体公司提供高质、高效、低成本测试解决方案。

    3.试验方法标准试验方法备注JESD22-A108F-20171.应力持续时间应符合要求，在必要时进行测量；2.如果制造商提供了验证数据，不需要在偏置下进行冷却。中断偏置1min，不应认为消除了偏置。1.测量所用时间不应纳入器件试验时间；2.偏置指电源对引脚施加的电压。，一般在老化结束96h内进行；2.在消除偏置之前，器件在室温下冷却到稳定状态的10℃以内。如果应力消失，则试验时间延长。GJB548B-2015方法：1.四种标准都保证了器件高温工作时间的完整性。————————————————版权声明：本文为CSDN博主「月丶匈」的原创文章，遵循，转载请附上原文出处链接及本声明。原文链接：。

一种闪存htol测试方法，包括：提供待测闪存，所述闪存包括闪存参考单元和闪存阵列单元；所述闪存参考单元中捕获有空穴；对所述闪存参考单元循环进行编译和擦除，以在所述闪存参考单元中引入电子；对所述闪存进行htol测试，所述引入电子在所述htol测试过程中部分丢失，以对htol测试过程中所述空穴的丢失形成补偿。具体的，待测闪存在同一闪存芯片(die)中的不同区域分布有闪存参考单元和闪存阵列单元，闪存阵列单元用于存储数据，闪存参考单元用于提供参考阈值电压以区分闪存阵列单元的状态。提供的待测闪存在其生产工艺过程中易在闪存参考单元中捕获。引入)空穴，所述空穴在htol测试过程中存在丢失。图2为本发明实施例的闪存参考单元的结构示意图，上海顶策科技有限公司智能一体化HTOL测试机TH801可以为芯片HTOL测试节省更多时间、FA成本。

闪存参考单元包括：衬底100，位于所述衬底中的导电沟道、位于所述导电沟道两侧的源极101和漏极102，位于导电沟道上方的栅极单元，所述栅极单元从下到上依次包括隧穿氧化层103、浮栅104、栅间介质层105以及控制栅106,所述栅极单元的两侧分布有侧墙107。栅间介质层105例如可以为依次层叠的氧化硅层、氮化硅层和氧化硅层的多层结构，即为ono结构。具体的，闪存在其生产工艺过程中易在闪存参考单元的隧穿氧化层103中捕获(引入)空**3为本发明实施例的对闪存参考单元进行编译示意图，如图3所示，对所述闪存参考单元进行编译，包括：在所述源极101上施加***编程电压vb1，在所述漏极102上施加第二编程电压vb2，在所述控制栅106上施加第三编程电压vb3，在所述衬底100上施加第四编程电压vb4；其中，所述***编程电压vb1小于所述第二编程电压vb2；所述第二编程电压vb2小于所述第三编程电压vb3。所述***编程电压的范围为～0v,所述第二编程电压的范围为～，所述第三编程电压vb3的范围为8v～10v,所述第四编程电压vb4的范围为～-1v，编译过程中的脉冲宽度为100μs～150μs。编译通过热电子注入的方式对所述浮栅104中注入电子。上海顶策科技有限公司智能一体化HTOL测试机TH801全程数据记录，让HTOL问题更容易分析，更有追溯性。嘉定区一体化HTOL测试机

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